光刻胶概念再度活跃 傅晶科技涨停 亿达股份上涨

(原标题：光刻胶概念再度活跃，傅晶科技涨停，亿达股份上涨。)

光刻胶概念在15日盘中再度活跃。截至发稿，蓝瑛装备涨超13%，傅晶科技涨停，金力泰涨近10%，安泰科技涨超7%，方静科技、亿达股份、苏达威格等。涨幅超5%，万润股份、瑞联新材均上涨。

亿达股份昨日表示，公司在光刻胶领域可以使用的湿法电子化学品主要有电子级丙二醇甲醚(PM)和亚级丙二醇甲醚醋酸酯(PMA)。公司将进一步加强科技创新，努力开发更多可用于光刻胶领域的高端产品。

瑞联新材昨日也表示，公司研发的光刻胶单体涉及ArF光刻胶和KrF光刻胶，部分已经量产。

万润股份近日表示，公司目前在半导体制造材料领域的相关产品主要包括光刻胶单体和光刻胶树脂，以及半导体制造过程中的清洗剂添加剂，相关产品已实现正常供应。半导体用光刻胶单体和光刻胶树脂的产品种类和生产技术涵盖了大部分主要产品；同时，在成品半导体光刻胶材料方面，我们也准备接受定制生产业务。此外，公司研发的光诱导产酸剂已实现中试产品供应。公司“年产65吨光刻胶树脂系列产品项目”已基本达到生产合格产品的要求，今后将继续优化，然后开始试生产，争取早日投入使用。目前，公司已与10多家国内外客户在半导体制造材料领域开展合作。同时，公司继续积极开发新产品，拓展更多的国内外客户。

财通证券指出，以成熟工艺为主的中国大陆半导体生产线的不断扩张，创造了对光刻设备的大量需求。2021年，ASML有27.4亿欧元的收入来自中国大陆(其全球第三大市场)；全球光刻设备市场规模超过180亿美元，显影和涂胶设备市场超过30亿美元。国内光刻曝光设备还处于实验阶段；显影涂胶设备已覆盖淹没式ArFi工艺节点，突破动能强劲。

光刻机的运行需要光源、照明、掩模台、物镜、工件台等诸多精密系统的组合，全球光刻零部件市场至少在70亿美元左右(按50%毛利率计算)。与其他半导体器件相比，光刻机器件个体价值高，技术难度大。贸易限制导致海外供应链风险剧增，国内光学企业成为唯一选择，其相应产品的技术能力和盈利能力有望加速增长。

光刻配套设备及零部件方面，机构建议关注苏大威格、毛莱光学、鑫源微、精密电子、梅生上海、美艾科技、炬光科技、傅晶科技。